拋光分機械拋光、化學拋光、電子束拋光、離子束拋光，較普遍采用的是化學機械拋光?；瘜W機械拋光是化學腐蝕和機械磨削同時進行，分為銅離子拋光、鉻離子拋光和普遍采用的二氧化硅膠體拋光。二氧化硅膠體拋光是由極細的二氧化硅粉、氫氧化鈉(或有機堿)和水配制成膠體拋光液。在拋光過程中，氫氧化鈉與硅表面反應天生硅酸鈉，通過與二氧化硅膠體的磨削，硅酸鈉進進拋光液，兩個過程不停頓地同時進行而達到拋光的目的。

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